椭偏仪的测量精度由哪些因素决定?今天铄思百检测小编带大家详细了解一下吧~首先我们先简单了解一下椭偏仪。
椭偏仪概述椭偏仪是一种用于探测薄膜厚度、光学常数以及材料微结构的光学测量设备。由于并不与样品接触,对样品没有破坏且不需要真空,使得椭偏仪成为一种极具吸引力的测量设备。椭偏仪可测的材料包括:半导体、电介质、聚合物、有机物、金属、多层膜物质。椭偏仪涉及领域有:半导体、通讯、数据存储、光学镀膜、平板显示器、科研、生物、医药等。
椭偏法测量优点:
(1)能测量很薄的膜(1nm),且精度很高,比干涉法高1~2个数量级。
(2)是一种无损测量,不必特别制备样品,也不损坏样品,比其他精密方法如称重法、定量化学分析法简便。
(3)可同时测量膜的厚度、折射率以及吸收率。因此可以作为分析工具使用。
(4)对一些表面结构、表面过程和表面反应相当敏感,是研究表面物理的一种方法。在半导体制造领域,为了监测硅片表面薄膜生长/蚀刻的工艺,需要对其尺寸进行量测。一般量测的对象分为两种:3D结构与1D结构。3D结构是最接近于真实Device的结构,其量测出来的结果与电性关联度最大。3D结构量测的精度一般是纳米级别的。1D结构就是几层,几十层甚至上百层薄膜的堆叠,主要是用来给研发前期调整工艺稳定性保驾护航的,其测量精度一般是埃数量级的。就逻辑芯片来说,最重要的量测对象是HKMG这些站点各层薄膜的量测。因为这些站点每层薄膜的厚度往往只有几个到十几个埃,而process window更极限,往往只有1-1.5个埃,也就是说对工艺要求极高。而这些金属层又跟电性关联度很大,所以每一家fab都对这些站点的量测非常重视。
椭偏仪的测量精度由哪些因素决定?
椭偏仪的测量精度主要取决于偏振器件的定位精度,故而产生系统误差因素较少。但测量时需读取或计算偏振器件的方位角,这样一来便影响了测量速度。所以消光式椭偏仪主要用于对测量速度要求不高的场合,例如高校实验室。而在工业上主要使用的是光度式椭偏仪。
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