仪器名称: | FIB制样 | 型号: | FEI Helios Nanolab 600i |
检测项目: | 利用高强度聚焦离子束对材料进行纳米加工,配合电镜(SEM或TEM)实时观察,进行纳米级分析。 | ||
应用范围: | 利用电透镜将离子束聚焦成非常小尺寸的离子束轰击材料表面,实现材料的剥离、沉积、注入、切割和改性。广泛应用于半导体集成电路修改、离子注入、切割和故障分析等。 | ||
制样要求: | 1.样品大小5×5×1cm,当样品过大需切割取样。 2.样品需导电,不导电样品必须能喷金增加导电性。 3.切割深度必须小于50微米。 4.易氧化,易潮样品需备注说明,QQ沟通。 |
PS:送样请附带“委托测试单”。
测试提示:
1.可开正规测试发票,附带测试清单。
2.有腐蚀性,毒性,或其他有危害性等特殊样品要事先告知测试人员,测试人员也要告知样品方哪些样品不能测或会对仪器产生损伤,测试后会对样品产生哪些变化;
3.客户需提供详细的样品资料,包括元素,主要成分和详细测试参数及条件。和测试人员充分讨论,商定最终测试条件;
4.测试人员与顾客通过QQ或邮件沟通,出现测试纠纷,邮件或聊天记录将作为重要的仲裁依据;请加QQ和技术人员交流:82187958。
5.杜绝测试、解析和合成违反国家相关法律法规的样品,一经发现将追究其法律责任。