X射线光电子能谱(XPS)的检测限因元素及其化学环境的不同而有所差异,通常在 0.1% 原子百分比(约1000 ppm) 左右。以下是具体影响因素及相关说明:
XPS的检测限受以下因素影响:
光电子的平均自由程:不同材料中电子的逃逸深度不同,例如金属为0.5-3 nm,有机物可达4-10 nm,直接影响表面信号的强度。
电离截面与灵敏度因子:不同元素的光电离效率差异显著,例如过渡金属(如Fe、Co)的主峰信号较强,检测限可能更低;而轻元素(如B、Li)因灵敏度因子低或谱峰重叠,检测限可能更高。
仪器性能:高分辨率设备(如Thermo ESCALAB 250Xi)的最小能量分辨率可达0.43 eV,微区分析能力(3 μm)可提升低含量元素的检测灵敏度。
Se、As等元素:主峰信号较弱时可能无法检测,需依赖俄歇峰(如Se的俄歇峰强度较高),但俄歇峰无法直接用于价态分析。
轻元素(如Li、B):常因谱峰重叠(如Li 1s与Co 3p重叠)导致检测限升高至5%以上,需通过分峰拟合或更换靶材(如Mg靶)解决。
H、He元素:因缺乏内层电子,XPS无法检测。
XPS的定量误差通常在 20%以内,主要受以下因素影响:
表面污染:空气中的C、O污染可能导致含量虚高,需通过污染碳校准(C 1s峰校正)或真空制样减少干扰。
样品不均匀性:粉末或块状样品表面成分分布不均时,低含量元素(<5%)可能因信噪比差而漏检。
化学态差异:同一元素的不同化学态(如Fe²⁺与Fe³⁺)可能因峰形复杂导致分峰误差。
EDS(能谱仪):检测限为2%以上,无法分析化学态,但可联用SEM/TEM实现微区元素分布成像。
TOF-SIMS:检测限更低(ppm级),但定量能力弱,常用于痕量元素补充分析。
延长测试时间:增加信号累积次数以提高信噪比。
深度剖析:通过离子刻蚀去除表面污染层,暴露内部成分。
多轨道检测:若主峰被干扰,可测试其他轨道峰(如Fe 2p改用Fe 3p)。
XPS的检测限总体为0.1%原子百分比,但实际应用中需结合元素特性、仪器性能及样品状态综合判断。对于痕量元素(如<0.1%),建议联用TOF-SIMS或调整测试策略(如聚焦微区分析)以提升灵敏度。