FIB制样-聚焦离子束制样
FIB制样-聚焦离子束制样
FIB制样-聚焦离子束制样
- 产品详情
仪器名称：
FIB制样
型 号：
FEI Helios Nanolab 600i
检测项目：
利用高强度聚焦离子束对材料进行纳米加工，配合电镜（SEM或TEM）实时观察，进行纳米级分析。
应用范围：
利用电透镜将离子束聚焦成非常小尺寸的离子束轰击材料表
面，实现材料的剥离、沉积、注入、切割和改性。广泛应用于
半导体集成电路修改、离子注入、切割和故障分析等。
制样要求：
1.样品大小5×5×1cm，当样品过大需切割取样。
2.样品需导电，不导电样品必须能喷金增加导电性。
3.切割深度必须小于50微米。
4.易氧化，易潮样品需备注说明，QQ沟通。
测试提示：
1.可开正规测试发票，附带测试清单。
2.有腐蚀性，毒性，或其他有危害性等特殊样品要事先告知测试人员，测试人员也要告知样品方哪些样品不能测或会对仪器产生损伤，测试后会对样品产生哪些变化；
3.客户需提供详细的样品资料，包括元素，主要成分和详细测试参数及条件。和测试人员充分讨论，商定最终测试条件；
4.测试人员与顾客通过QQ或邮件沟通，出现测试纠纷，邮件或聊天记录将作为重要的仲裁依据；请加QQ和技术人员交流：82187958。
5.杜绝测试、解析和合成违反国家相关法律法规的样品，一经发现将追究其法律责任。
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